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高級儀器儀表清洗劑技術
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1.用途 本劑是由三氟三氯乙烷、二氯甲烷和二甲苯為原料組成的高級儀器儀表清洗劑,它適用于清洗精密光學儀器,如電子計算機、人造衛(wèi)星導航裝置、航空航天用的精密設備等。同時,還可用于清洗印刷電路板、半導體、電子器件的污垢及松香焊劑。本劑具有去污能力強、干燥快、使用安全、對儀器儀表無損害等優(yōu)點。 2.原料 (1)三氟三氯乙烷:簡
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