本公開內(nèi)容總體上涉及高爾夫球桿桿頭以及用于熱處理高爾夫球桿桿頭的外表面以便增加高爾夫球桿桿頭外表面的表面硬度和耐腐蝕性的方法。本文描述的方法可以涉及高爾夫裝備,并且更具體地,涉及用于面板和高爾夫球桿主體的材料,以及制造和熱處理的方法。
背景技術(shù):
0、背景
1、高爾夫球桿桿頭可以被操控以改變球桿桿頭的物理和機械特性。高爾夫球桿桿頭經(jīng)歷若干制造過程以獲得具有期望的物理規(guī)格的最終產(chǎn)品。例如,在通過鑄造或鍛造制造高爾夫球桿桿頭之后,可以應(yīng)用多種表面處理以獲得期望的機械和物理性質(zhì)。在表面處理之后,可以操控高爾夫球桿桿頭的桿面角度(loft?angle)和/或桿頭角度(lie?angle)。
2、桿面角度和桿頭角度兩者直接影響球桿桿頭以期望的發(fā)射角度將高爾夫球準確地引導(dǎo)到期望的目標線上的能力。高爾夫球桿桿頭的桿面角度(也稱為“桿面(loft)”)是指當高爾夫球桿保持在準備擊球位置時在球桿面和地平面之間形成的角度。桿面影響高爾夫球的軌跡和旋轉(zhuǎn)速率。高爾夫球桿桿頭的桿頭角度(也稱為“桿頭(lie)”)是指當高爾夫球桿保持在準備擊球位置時桿身與地平面之間形成的角度。在沒有適當?shù)臈U頭角度的情況下,球員將失去以期望的發(fā)射角度一致且準確地使高爾夫球沿期望的目標線前進的能力。因此,有必要在球桿桿頭形成后調(diào)整桿面角度和桿頭角度,以確保實現(xiàn)期望的桿面角度和桿頭角度。
3、在這樣的彎曲操作期間,球桿桿頭可能會出現(xiàn)外觀缺陷,諸如應(yīng)力斑痕(stressmark)和/或結(jié)構(gòu)失效(structural?failure)。更具體地,張力可能導(dǎo)致在球桿桿頭的外表面上形成裂紋。常規(guī)的表面處理方法,諸如已知的淬火-拋光-淬火工藝,導(dǎo)致線束(harnesses)和材料結(jié)構(gòu)在制造期間在彎曲或其他物理操作期間容易產(chǎn)生表面裂紋。因此,本領(lǐng)域需要一種制造工藝,該工藝提供高爾夫球桿桿頭的期望的表面硬度,同時最小化插鞘上表面裂紋的存在。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1.一種用于處理高爾夫球桿桿頭的方法,所述方法包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述氮化鹽具有在28%和36%之間的cno濃度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中步驟(b)的所述噴砂用220#粒度的玻璃珠進行。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述氮化物層具有在0.00025英寸和0.00060英寸之間的氮化物厚度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中所述氮化物層具有氮化物最大厚度和氮化物最小厚度;
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其中所述氮化物層具有小于1.25的氮化物均勻性。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述第一氧化物層具有小于0.000115英寸的第一氧化物厚度。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其中所述第一氧化物層具有第一氧化物最大厚度和第一氧化物最小厚度;
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其中所述第一氧化物層具有小于1.85的第一氧化物均勻性。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述第二氧化物層具有小于0.000115英寸的第二氧化物厚度。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法,其中所述第二氧化物層具有第二氧化物最大厚度和第二氧化物最小厚度;
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其中所述第二氧化物層具有小于1.65的第一氧化物均勻性。
13.一種高爾夫球桿桿頭,包括:
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的高爾夫球桿桿頭,其中所述qpq飾面具有在55hrc和65hrc之間的硬度。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的高爾夫球桿桿頭,其中所述氮化物層具有在0.00025英寸和0.00060英寸之間的氮化物厚度。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的高爾夫球桿桿頭,其中所述氮化物層具有氮化物最大厚度和氮化物最小厚度;并且
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的高爾夫球桿桿頭,其中所述第一氧化物層具有小于0.000115英寸的第一氧化物厚度。
18.根據(jù)權(quán)利要求13所述的高爾夫球桿桿頭,其中所述第一氧化物層具有第一氧化物最大厚度和第一氧化物最小厚度;
19.根據(jù)權(quán)利要求13所述的高爾夫球桿桿頭,其中所述第二氧化物層具有小于0.000115英寸的第二氧化物厚度。
20.根據(jù)權(quán)利要求13所述的高爾夫球桿桿頭,其中所述第二氧化物層具有第二氧化物最大厚度和第二氧化物最小厚度;