本申請涉及半導(dǎo)體，尤其涉及一種用于晶圓清洗單元的轉(zhuǎn)速測定裝置、晶圓清洗單元及晶圓處理設(shè)備。
背景技術(shù)：
1、化學(xué)機械拋光設(shè)備是對晶圓進行化學(xué)機械拋光的常用設(shè)備。在一些化學(xué)機械拋光設(shè)備中，需要采用轉(zhuǎn)速測定裝置來測定處于旋轉(zhuǎn)狀態(tài)下的晶圓的轉(zhuǎn)速。例如一個示例的應(yīng)用場景下，可以是在化學(xué)機械拋光設(shè)備的清洗裝置對晶圓的清洗工作中，需要準確檢測在清洗中的晶圓的轉(zhuǎn)速，以保證對晶圓進行清洗的工藝質(zhì)量。
2、目前的一些類型的轉(zhuǎn)速測定裝置可包括測速單元和轉(zhuǎn)動單元，旋轉(zhuǎn)的晶圓可以帶動轉(zhuǎn)動單元轉(zhuǎn)動，測速單元可以通過檢測轉(zhuǎn)動單元的轉(zhuǎn)速，進而間接測得晶圓的轉(zhuǎn)速。轉(zhuǎn)動單元通常通過軸承來實現(xiàn)轉(zhuǎn)動，但由于在長時間使用過程中軸承易出現(xiàn)磨損，磨損的碎屑容易造成軸承卡頓，導(dǎo)致轉(zhuǎn)動單元無法正常轉(zhuǎn)動，轉(zhuǎn)速響應(yīng)不及時，從而降低了轉(zhuǎn)速測定裝置的轉(zhuǎn)速測定效果，難以保證對晶圓的轉(zhuǎn)速測定準確性。因此，需要一種新的轉(zhuǎn)速測定裝置的技術(shù)方案來改善這樣的問題。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、根據(jù)本申請的一方面，本申請?zhí)峁┝艘环N用于晶圓清洗單元的轉(zhuǎn)速測定裝置，轉(zhuǎn)速測定裝置包括：固定軸、轉(zhuǎn)動單元和測速單元；固定軸設(shè)置有液體通路；轉(zhuǎn)動單元包括轉(zhuǎn)動部和軸承組件，轉(zhuǎn)動部形成容納腔，固定軸部分伸入容納腔并與轉(zhuǎn)動部通過軸承組件形成連接，轉(zhuǎn)動部用于與旋轉(zhuǎn)的晶圓接觸，并在旋轉(zhuǎn)的晶圓帶動下通過軸承組件繞固定軸旋轉(zhuǎn)；測速單元用于測定轉(zhuǎn)動部在旋轉(zhuǎn)時的轉(zhuǎn)速；其中，固定軸設(shè)置的液體通路與容納腔連通，且容納腔為非封閉腔體，以使通過液體通路進入容納腔的至少部分液體，能夠在流經(jīng)軸承組件后從容納腔排出到轉(zhuǎn)速測定裝置外部。
2、根據(jù)本申請的另一方面，本申請?zhí)峁┝艘环N晶圓清洗單元，包括：清洗腔室、以及設(shè)置于清洗腔室內(nèi)的清洗裝置、驅(qū)動裝置和如前述任一項的轉(zhuǎn)速測定裝置，其中，清洗裝置用于對晶圓進行清洗，驅(qū)動裝置用于驅(qū)動晶圓旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速測定裝置用于測定晶圓的轉(zhuǎn)速。
3、根據(jù)本申請的再一方面，本申請?zhí)峁┝艘环N晶圓處理設(shè)備，包括：控制單元、化學(xué)機械拋光單元、晶圓搬運單元和如前述的晶圓清洗單元，控制單元控制晶圓搬運單元將經(jīng)化學(xué)機械拋光單元化學(xué)機械拋光處理后的晶圓轉(zhuǎn)移至晶圓清洗單元的清洗腔室內(nèi)，轉(zhuǎn)速測定裝置將晶圓清洗單元所清洗的晶圓的轉(zhuǎn)速反饋至控制單元。
4、本申請中的轉(zhuǎn)速測定裝置，一方面，其固定軸與轉(zhuǎn)動單元的轉(zhuǎn)動部通過軸承組件形成連接，使得轉(zhuǎn)動單元可以在旋轉(zhuǎn)的晶圓的帶動下通過軸承組件繞固定軸旋轉(zhuǎn)，并可以通過測速單元測定轉(zhuǎn)動部在轉(zhuǎn)動時的轉(zhuǎn)速，從而可以通過測定轉(zhuǎn)動部的轉(zhuǎn)速準確地確定晶圓的轉(zhuǎn)速，有效地實現(xiàn)對晶圓的轉(zhuǎn)速測定功能；另一方面，由于固定軸設(shè)置有液體通路，固定軸部分伸入容納腔，液體通路與容納腔連通，且容納腔為非封閉腔體，通過液體通路進入容納腔的至少部分液體，能夠在流經(jīng)軸承組件后從容納腔排出到轉(zhuǎn)速測定裝置外部，這樣使得該轉(zhuǎn)速測定裝置能夠通過固定軸設(shè)置的液體通路向容納腔注入液體，液體可以在流經(jīng)軸承組件時可以將軸承組件磨損產(chǎn)生的碎屑，從未封閉的容納腔同步帶離到轉(zhuǎn)速測定裝置外部(可以理解為將碎屑沖走)，實現(xiàn)了對碎屑的清理，這樣就能夠降低軸承組件因碎屑出現(xiàn)卡頓的風(fēng)險，更好地保證轉(zhuǎn)動單元的正常轉(zhuǎn)動，提高轉(zhuǎn)速響應(yīng)的及時性，從而有效保證轉(zhuǎn)速測定裝置的轉(zhuǎn)速測定效果，有效保證對晶圓的轉(zhuǎn)速測定準確性。
1.一種用于晶圓清洗單元的轉(zhuǎn)速測定裝置，其特征在于，所述轉(zhuǎn)速測定裝置包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)速測定裝置，其特征在于，所述轉(zhuǎn)動部包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的轉(zhuǎn)速測定裝置，其特征在于，所述轉(zhuǎn)動部還包括接觸組件，所述接觸組件套接于所述安裝管體，并用于與旋轉(zhuǎn)的晶圓接觸；
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的轉(zhuǎn)速測定裝置，其特征在于，所述轉(zhuǎn)速測定裝置還包括阻擋結(jié)構(gòu)，所述阻擋結(jié)構(gòu)包括至少兩個阻擋環(huán)，所述至少兩個阻擋環(huán)間隔套接在所述接觸組件的第一側(cè)和所述接觸結(jié)構(gòu)之間的接觸組件上，用于阻擋流經(jīng)所述接觸組件的第一側(cè)的至少部分液體朝向所述接觸結(jié)構(gòu)流動。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的轉(zhuǎn)速測定裝置，其特征在于，
6.根據(jù)權(quán)利要求2-5中任一項所述的轉(zhuǎn)速測定裝置，其特征在于，所述軸承組件包括至少兩個軸承，所述固定軸包括相連接的第一部分和第二部分，且所述第一部分的外徑小于所述第二部分的外徑；
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的轉(zhuǎn)速測定裝置，其特征在于，所述轉(zhuǎn)動部還包括端蓋，所述端蓋連接于所述安裝管體的第一側(cè)，并部分覆蓋未封閉的所述安裝管體的第一側(cè)形成的開口，且所述端蓋套設(shè)于所述第二部分的外部并與所述第二部分之間形成第一間隙；
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的轉(zhuǎn)速測定裝置，其特征在于，所述轉(zhuǎn)速測定裝置還包括固定座，所述固定軸安裝于所述固定座，所述固定座與所述端蓋之間形成第二間隙，所述固定座與所述接觸組件之間還形成第三間隙；
9.一種晶圓清洗單元，其特征在于，包括：清洗腔室、以及設(shè)置于所述清洗腔室內(nèi)的清洗裝置、驅(qū)動裝置和如權(quán)利要求1-8中任一項所述的轉(zhuǎn)速測定裝置，其中，所述清洗裝置用于對晶圓進行清洗，所述驅(qū)動裝置用于驅(qū)動晶圓旋轉(zhuǎn)，所述轉(zhuǎn)速測定裝置用于測定晶圓的轉(zhuǎn)速。
10.一種晶圓處理設(shè)備，其特征在于，包括：控制單元、化學(xué)機械拋光單元、晶圓搬運單元和如權(quán)利要求9所述的晶圓清洗單元，所述控制單元控制所述晶圓搬運單元將經(jīng)所述化學(xué)機械拋光單元化學(xué)機械拋光處理后的晶圓轉(zhuǎn)移至所述晶圓清洗單元的所述清洗腔室內(nèi)，所述轉(zhuǎn)速測定裝置將所述晶圓清洗單元所清洗的晶圓的轉(zhuǎn)速反饋至所述控制單元。