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一種純直流平面型離子漏斗的制作方法

文檔序號:42298058發(fā)布日期:2025-06-27 18:37閱讀:7來源:國知局

本發(fā)明屬于離子輸運(yùn),具體涉及一種純直流平面型離子漏斗。


背景技術(shù):

1、離子漏斗是一種離子導(dǎo)向輸運(yùn)裝置,其核心功能在于高效地引導(dǎo)和聚焦離子束;傳統(tǒng)的離子漏斗構(gòu)型多用于將粗真空區(qū)域的離子順利傳輸至高真空區(qū)域的質(zhì)譜分析儀或其他設(shè)備中;其一般采用多級漸縮的漏斗型電極陣列結(jié)構(gòu),通過射頻電場對離子的徑向束縛和勻強(qiáng)電場對離子的軸向推進(jìn),在電場作用下有效引導(dǎo)離子沿預(yù)定路徑傳輸,可在粗真空環(huán)境下大幅降低寬范圍分布離子的空間發(fā)散度實(shí)現(xiàn)聚焦;

2、但傳統(tǒng)的離子漏斗構(gòu)型由于需要使用射頻電壓,其電源往往較為復(fù)雜和昂貴,并且由于需要數(shù)十片至數(shù)百片的環(huán)形電極堆砌成長隧道減縮模型,其機(jī)械加工和電路設(shè)計(jì)方式往往也較為繁瑣;此外,當(dāng)傳統(tǒng)的離子漏斗構(gòu)型運(yùn)用于高真空環(huán)境下時,由于缺少了背景氣體分子的緩沖碰撞,過快的離子會來不及聚焦從而撞到電極壁上造成大量離子損失;因此能否簡化離子漏斗的結(jié)構(gòu),施加純直流電壓進(jìn)行聚焦,以及使其適用于多數(shù)真空環(huán)境是離子漏斗進(jìn)一步的改進(jìn)方向。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于提供一種純直流平面型離子漏斗,以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:

3、一種純直流平面型離子漏斗,包括:

4、直流電源和由n個環(huán)形電極,n個所述環(huán)形電極從內(nèi)向外同圓心堆疊而成,并構(gòu)成平面型結(jié)構(gòu),每個所述環(huán)形電極的壁厚相同,且壁厚較薄,n個所述環(huán)形電極的半徑從內(nèi)向外逐漸增大,構(gòu)成一圈圈同心圓結(jié)構(gòu),每個所述環(huán)形電極之間設(shè)置有相同的間距,所述直流電源從內(nèi)而外對每個環(huán)形電極施加具有恒定梯度的直流電壓,根據(jù)聚焦能力原理,通過在不同同心環(huán)形電極的梯度電壓,形成在同一平面堆疊的由外至內(nèi)、由高到低的電勢梯度場,因此大范圍粒子會在同一平面內(nèi)迅速受到強(qiáng)有力的聚焦效果。

5、優(yōu)選的,所述直流電源從內(nèi)而外對每個所述環(huán)形電極施加的直流電壓的恒定梯度范圍為1v~1000v。

6、優(yōu)選的,每個所述環(huán)形電極之間均串聯(lián)有電阻來分別控制單路直流電源。

7、優(yōu)選的,每個所述環(huán)形電極的電壓由外向內(nèi)逐步遞減,如即最外側(cè)環(huán)形電極為100v,最內(nèi)側(cè)環(huán)形電極電壓為10v,100v→10v形成了單一平面的大范圍向內(nèi)的勢能梯度場,實(shí)現(xiàn)有效聚焦,具體電壓梯度可以根據(jù)粒子動能狀態(tài)進(jìn)行改變,高速粒子需要更大梯度,低速粒子需要更小梯度。

8、優(yōu)選的,每個所述環(huán)形電極的壁厚大小范圍為0.1mm~50mm,長度范圍為1mm~100mm。

9、優(yōu)選的,每個所述環(huán)形電極之間的間距范圍為0.1mm~50mm。

10、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是:

11、本發(fā)明公開了一種施加純直流電壓的環(huán)形電極同心堆疊的平面型離子漏斗模型,并經(jīng)過模擬驗(yàn)證其在粗真空或高真空環(huán)境下都擁有傳輸效率高和聚焦能力好的作用。



技術(shù)特征:

1.一種純直流平面型離子漏斗,其特征在于,包括:直流電源和由n個環(huán)形電極,n個所述環(huán)形電極從內(nèi)向外同圓心堆疊而成,并構(gòu)成平面型結(jié)構(gòu),每個所述環(huán)形電極的壁厚相同,n個所述環(huán)形電極的半徑從內(nèi)向外逐漸增大,構(gòu)成一圈圈同心圓結(jié)構(gòu),每個所述環(huán)形電極之間設(shè)置有相同的間距,所述直流電源從內(nèi)而外對每個環(huán)形電極施加具有恒定梯度的直流電壓。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種純直流平面型離子漏斗,其特征在于:所述直流電源從內(nèi)而外對每個所述環(huán)形電極施加的直流電壓的恒定梯度范圍為1v~1000v。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種純直流平面型離子漏斗,其特征在于:每個所述環(huán)形電極之間均串聯(lián)有電阻來分別控制單路直流電源。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種純直流平面型離子漏斗,其特征在于:每個所述環(huán)形電極的電壓由外向內(nèi)逐步遞減。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種純直流平面型離子漏斗,其特征在于:每個所述環(huán)形電極的壁厚大小范圍為0.1mm~50mm,長度范圍為1mm~100mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種純直流平面型離子漏斗,其特征在于:每個所述環(huán)形電極之間的間距范圍為0.1mm~50mm。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及離子輸運(yùn)技術(shù)領(lǐng)域,具體公開了一種純直流平面型離子漏斗,包括:直流電源和由N個環(huán)形電極,N個所述環(huán)形電極從內(nèi)向外同圓心堆疊而成,并構(gòu)成平面型結(jié)構(gòu),每個所述環(huán)形電極的壁厚相同,N個所述環(huán)形電極的半徑從內(nèi)向外逐漸增大,構(gòu)成一圈圈同心圓結(jié)構(gòu),每個所述環(huán)形電極之間設(shè)置有相同的間距,所述直流電源從內(nèi)而外對每個環(huán)形電極施加具有恒定梯度的直流電壓;本發(fā)明公開了一種施加純直流電壓的環(huán)形電極同心堆疊的平面型離子漏斗模型,并經(jīng)過模擬驗(yàn)證其在粗真空或高真空環(huán)境下都擁有傳輸效率高和聚焦能力好的作用。

技術(shù)研發(fā)人員:黃玉峰,陳藝章,貝茂陽,李好強(qiáng),劉紅宇,周松
受保護(hù)的技術(shù)使用者:深圳擴(kuò)維原子科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/6/26
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